PVD500无水氧磁控溅射系统

发布者:李世凤发布时间:2020-11-10浏览次数:52

系统特点:

1、完全封闭的无尘室、真空室连接手套箱工作、创造无水无氧工作环境;

2、方型优质304不锈钢真空腔室,配铝制门,及多视角观察窗,并配有窗防污挡板;

3、人工触摸屏或特殊方法控制,计算机化的工艺自动化;

工艺模块:

1、磁控溅射,磁控靶RF、DC、脉冲DC兼容,可选配溅射铁磁性材料的磁控靶;

2、尺寸为4英寸的样品可均镀膜,单片不均匀度为≤±4%(以镀膜金属薄膜进行验收,镀金属膜厚度约200nm)

配置选项:

1、基片可加热、可加负偏压或可加射频清洗;

2、调节工作气压装置(即节流阀);

系统极限真空:≤6.6×10-5Pa(5×10-7Torr)

系统漏率:停泵关机12小时,系统真空≤10Pa

系统抽速:系统从大气开始抽气:25分钟可达到6.6x10-4 Pa